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關(guān)于勻膠機(jī)旋涂?jī)x,你可能想知道這些內(nèi)容

更新日期:2024-12-06      點(diǎn)擊次數(shù):1262
  勻膠機(jī)旋涂?jī)x主要用于微加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中的光刻、烘焙和其他設(shè)備,如硅芯片和陶瓷芯片上的均化膠。均勻膠旋涂?jī)x器價(jià)格低廉,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。它可以在很大程度上確保均勻的旋涂;可以旋涂不同尺寸的基材。
 
  勻膠機(jī)旋涂?jī)x通過在片材保持器上產(chǎn)生負(fù)壓來吸收待旋涂在片材固定器上的基材,并且膠滴到基材表面上。離心力通過精確調(diào)節(jié)電機(jī)的轉(zhuǎn)速而改變。同時(shí),膠水流由滴膠裝置控制,以達(dá)到薄膜制備所需的厚度。此外,膜厚度還取決于環(huán)境因素,如旋涂時(shí)間、膠水粘度、殘余涂層溫度和濕度。
 
  勻膠機(jī)旋涂?jī)x的工藝特點(diǎn)要求硅晶片在托盤的真空抽吸作用下與主軸一起高速旋轉(zhuǎn)。因此,均化托盤的幾何參數(shù)將對(duì)吸附的硅晶片的變形產(chǎn)生一定影響,而硅晶片過度變形將影響其表面形態(tài)和平整度,從而影響光致抗蝕劑的均勻性。
 
  通過數(shù)值和解析解,指出隨著均勻膜厚度變薄,表面形貌的影響將增大;通過數(shù)學(xué)模型和計(jì)算機(jī)模擬,分析了離心速度等參數(shù)對(duì)旋涂性能的影響。通過實(shí)驗(yàn)分析,指出襯底不均勻會(huì)直接導(dǎo)致涂層均勻性差,從而改變IC芯片開發(fā)后的線的黑白比。
 
  控制和顯示:
 
  1、設(shè)置處理速度和加速程序段非常方便;可設(shè)置順序循環(huán)控制;
 
  2、顯示精度應(yīng)控制在設(shè)定值的0.006%以內(nèi);
 
  3、操作員可以隨時(shí)隨地自由實(shí)現(xiàn)人機(jī)交互。
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